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超硬材料国家重点实验室是依托吉林大学原子与分子物理研究所建立的，
是国际上 最早达到百万大气压
的五个实验室之一，在静水压的定标等超高压技术、高温高压下金刚
石的合成机理、高压下物质结构相
变等研究领域处于国际前沿，
受到国际 同行的关注。
实验室自建成以来在国家和学校的资助下购入了美
国光谱物
理公司的激光喇曼光谱仪
(
含氩离子激光器
)< /p>
；显微共聚焦高压拉曼光谱仪；高压红外真空光
谱仪；日本理学的
x
光衍射仪；法国
JOBIN-YVON
公司的多功能光谱 仪；日本日立公司的透射电子显
微镜等大型仪器并自行设计了
HC-PC VD
热阴极直流等离子体化学气相沉积系统，
所以仪器目前运转良
好，为全室师生及外院校科研人员创造了良好的实验条件。
高压布里渊散射实验系统
简介
高压布里渊散射的测量方法入射光进
入样品后，由于与样品中声学声子的相互
作用，使得入射光发生频率的位移，此
种
现象即布里渊散射。进行高压布里渊散射
的测量，可以获得高
压下物质的声速，从
而求得压力与样品的弹性模量等的关系。
高压真空红外光谱仪
简介
高压真空红外光谱仪使用了布鲁克光
谱公司生产的
VERTEX 80v
真空傅立叶变
换红外光谱仪，并在其
基础之上，自主改
显微共聚焦高压拉曼光谱仪
简介
Renishaw inVia
显微拉曼光谱仪是
能实
现高分辨率的共焦测量的高灵敏度系
统。
光谱仪支持多激光，
与之配套使用
的有
四台从近红外到紫外的激光器，激发
波长分别为
830nm
，
633nm
，
514nm
，
325nm.
可以根据布不同的
材料和测试要求，分别
选择不同的光路。
可以进行高压拉曼散射光谱、光致发光光
谱等
研究。
日立
H-8100
Ⅳ透射电子显微镜
简介
日立
H-8100
Ⅳ透射电子显微镜是一
种分辨率很高的分析型显微镜。可对各种
无机、生物、金属、纳米粒子
进行形态结
进了测试平台，使之可以进行高压方面的
研究。该光谱仪可以同时可以配置多个检
测器和多个光源并可自动选择，其提供的<
/p>
光谱范围可从远红外（太赫）一直到紫外
区域。
电子探针
简介
JXA
—
8200
电子探针
（
Electronic
Probe Microanalyzer
）
元素测量范围
5
B
~ 92 U
，
波长范围
0.087 nm ~ 9.3
nm
，
加速电压
0.2 kV ~ 30kV,
二次
电子图像分辨率为
6nm(WD 11mm ,
30 kV)
。
可以对试样中微小区域的化学
组成进
行定性或定量分析，进行点、线、
面扫描分析。附件
电子背散射衍射系统
（
EBSD
），
可以在亚微米甚至纳米尺
度上进行
晶体取向分析，晶体夹角（位向
差）分析，结构分析，晶体粒度及晶界类
型分析，重位点阵晶界分布分析，相鉴定
等
NanoScopeIII
电子扫描探针
构及其样品的选区电子衍射的研究，，晶
格分辨率和点分辨率是
0.144nm
和
0.205
nm
，最小束斑
1nm
，原位样品加
热－
120
℃－
1000
℃，扫描透射功能的分
辨率为
1.5nm,
可满足不同材料的测试需
< br>求，
H-8100
Ⅳ的
CCD
功能，可直接 对图
象进行采集和处理，附件有扫描电子显微
镜（日本日立
H-8110
，分辨率
2nm
）和
电子散射
X
光能谱（
philips,DX-4
）。
紫外可见光谱仪
简介
型号：
UV-3150
；出产公司：
SHIMADZU
；谱带宽度：
0.1nm
—
30nm
；测定波长范围：
190nm
—
3200nm
；分辨率：最小
0.1nm
；
杂散光：
0.00008%
以下
（
220nm
，
NaI
）
；
分光器：
由
2
组
3
枚光栅组成的双单色器；
功能简介：
利
用样品池和积分球，在三种测试模块下对
液体、粉末、薄膜等光学材料进
行透射率、
吸收率、反射率的测定。
霍尔测量系统
简介
NanoScopeIII
电子扫描探针（原
子力显微镜）
是
Digital Instruments
公
司的最新产品它集中了
SPM
领域的最顶
级的技术。它能在能在样品表面
XY
方向
扫描准确的反应样品表面的信息。测量范
围为：
5nm-12nmXY
，真正实现原子
尺寸的分辨。
系统采用
4
个弹性系数分别
为
0.58
，
0.32
，
0.12
，
0.06N/m^2
的氮化硅
V
形探针，可以
满足不同测量要求。
NanoScopeIII
强
大的电子信号处理系统和
方便电子图象处
理可实现方便直观的操作。此外系统还包
含：<
/p>
TM
、
电化学
AFM
、
电化学
STM
、
磁场力、电场力、横向力显微镜等
T64000
多功能光谱仪
简介
1800
条
/nm
全息光栅
光谱范围：
350-900nm
；
杂散光：< /p>
10 -14
；
重复性：
±
0.1cm -1
；精度：
0.01%
；
600
条
/nm
全息光栅
闪烁在
1.5mm
，光谱范
围：
800nm-2.5mm
；极低噪声的
CCD
探测器
光谱范围：
400-1000n m
；
PbS
探测系统
光 谱范围：
0.8-4.5m
；显微入
射系统配有
x100
，
x50
，
x40
（长焦距）
简介
霍尔测试系统包括
Lakeshore 420
高斯计及探头，
Keithley
测量仪表：
2400
电流表，
2700
万用表，
7709
型
6 ×
8
矩阵卡，
EM7
电磁铁和
9060
型
电磁铁恒流电源，
RC-50-1
循环水冷机，
整个系统由计算机自动系统进行霍耳效应
< br>测量。系统可进行半导体材料、铁氧体材
料、
TMR
材料等材料的测试，可以直接
进行霍尔电压、电
阻、电阻率、霍尔系数、
迁移率、载流子浓度、磁电阻、
I-V
特性
的测量，电阻测量范围：
10m Ω —
10 ×
10 4
Ω
，测量的不确定度为
2%
。
Spex-1403
激光喇曼光谱仪
简介
1800
条
/nm
全息光栅
光谱范围：
300-900nm
；
分辨率：< /p>
0.15cm
-1
；
精度：
±
1cm
-1
；
带有第三单色仪及显微入射系统
物镜
日本理学
D/MAX- RA x
光衍射仪
超显微硬度计
简介
转靶
X
光机，
12KW
，配有
PSPC
系
统。
加速电压：
≤60kv
，
管流：
≤ 200mA
。
主要功能：
X
射线衍射分析 （多晶
X
射线
衍射分析
)
；结合摇摆曲线作单晶多级衍
射；单晶外延膜多级衍射；结
合极图仪作
单晶定向；结合纤维样品装置作德拜环扫
描
表面轮廓测量仪器
简介
用于测量分析材料表面的形貌分布，
还可以用于测量薄膜的厚度。
高电压纳米制备系统
简介
超显微硬度计，
ANTOR PEAK
-4
最小感量：
0.2g
高压光伏谱仪
简介
高压光电压谱仪是本实验室自组装的
用于测试光电压<
/p>
(
分辨率
0.2
微伏
)
和光电
流
(
分辨率
1
纳 安
)
的装置。目前可以完成
高压下样品的测试。可以通过
更换光源和
选择不同的谱段的光栅完成
200nm-2000n
m
波段的光电信号测试。
光刻机